三溴化硼作为一种强酸性路易斯酸可以用于脱烷基反应,反应机理如下图,首先甲基醚中氧原子的孤对电子进攻硼原子,溴离子离去,氧原子为正电性;然后溴离子进攻甲基碳正中心生成甲基溴;最后烷氧基二溴硼烷经过水解得到相应的羟基化合物。一般选择极性溶剂促进反应,例如乙二醇二甲醚和四氢呋喃。
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一般活性药物分子都具有手性中心,2021年报道的文献中尝试了HBr/AcOH, HCl/iPrOH, AlCl3脱甲基,会发生消旋或转化不完全;尝试利用蛋氨酸/甲基磺酸脱甲基需要长达3天的时间,并且长时间反应会导致产物消旋;最后利用三溴化硼可以完全脱甲基并顺便脱掉Boc,高效保护了化合物的手性。
图片来源:Org. Process Res. Dev. 2022, 26, 3, 710–729
在碳基集成电路制造领域,石墨烯基器件中采用原子层沉积方法生长氮化硼,作为高k栅氧介质。氮化硼基于六边形层状结构,具有优异的物理性质和极高的化学稳定性,六方晶型具有宽带隙(5.5 - 6.0 eV)适用于电子器件的介电层。三溴化硼是一种蒸气压较高的前驱体(25℃,70Torr),很容易于氨反应得到氮化硼。在原子层沉积过程中,三溴化硼与基底羟基发生反应,饱和吸附后进行吹扫,然后通入NH3反应,完成后再进行吹扫,往复循环得到氮化硼薄膜,研究表明当沉积温度为750℃时,可降低氮化硼薄膜对空气和水份的敏感性。(Thin Solid Films, 2022, 402, 167 - 171)
半导体器件制备工艺中,通常需要在硅衬底中掺杂P型或者N型杂质来形成PN结,扩散和离子注入是半导体掺杂的两种主要方式。在太阳能电池工业中,长采用扩散的方式向N型晶体掺杂P型杂质,而硼的价格低廉且扩散速度快,常作为掺杂体。行业内大多数都是利用液态三溴化硼作为前驱体,在硅衬底表面沉积三氧化二硼薄膜,然后加热硅衬底,使之与三氧化二硼发生反应(2B203+3Si=4B+3Si02),生成硼原子,硼原子作为扩散源在高温下向硅片内部扩散,形成PN结。(CN 104250725 A)
Chemical Name | Boron tribromide |
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Synonym | BORON TRIBROMIDE, REAGENTPLUS, >=99% BORON TRIBROMIDE, 99.995% 晶碱石 boron (III) bromide BORON TRIBROMIDE, REAGENTPLUS, 99.9% Bortribromid 三溴化硼(0402禁空运) boronbromide(bbr3) 三溴化硼,1M在二氯甲烷溶剂中 Boron tribromide tribromoborane 三溴化硼 BORON TRIBROMIDE, 1.0M SOLUTION IN HEPTA NE tribromo-boran Boron bromide (BBr3) BORON TRIBROMIDE SOLUTION, ~1 M IN DICHL OROMETHANE Borane,tribromo- Boron,tribromo- trona 天然碱 BORON TRIBROMIDE BBr3 三溴化硼 溶液 Borane, tribromo- BORON TRIBROMIDE, 1.0M SOLUTION IN HEXAN ES Tribromoboron tribromuredebore 溴化硼 boron tribromide 三溴硼烷(爆炸,禁止销售)BORON TRIBROMIDE, 99.9% 三溴硼烷 丝光晶碱石 BORON TRIBROMIDE, 1.0M SOLUTION IN DICHL OROMETHANE Boron tribromide Solution BORON BROMIDE Boron bromide 溴化硼;天然碱 三溴化硼, 99% MIN 碳酸钠石 tribromoboron Tribromoborane 天然碱;碳酸钠石 BBr3 |
CAS Number | 10294-33-4 |
PubChem Substance ID | 125307031 |
EC Number | 233-657-9 |
MDL Number | MFCD00011312 |
Reaxys-RN | 3903058 |
Merck Number | 1347 |
Beilstein Registry Number | 2384789 |
Chemical Name Translation | 三溴化硼 |
LabNetwork Molecule ID | LN00163667 |
WGK Germany | 3 |
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Hazard Codes | T+ T+,C T+;C T+,C,F,N |
Hazard statements | |
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Personal Protective Equipment | Faceshields, full-face respirator (US), Gloves, Goggles, multi-purpose combination respirator cartridge (US), type ABEK (EN14387) respirator filter |
RTECS | ED7400000 |
Precautionary statements | |
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Signal word | |
Storage condition | Moisture Sensitive 2-8℃易吸潮,密封充氩保存。 Poison room 充氩保存 易吸潮,密封充氩保存。 Moisture & Light Sensitive 0-10°C 避光,易吸潮,密封充氩保存。 0-10 |
UN Number | 3390 UN2692 3489 UN3390 UN3384 |
Risk Statements | |
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Safety Statements | |
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Packing Group | I |
Hazard Class | 6.1/3, 8 |
Warnings | 危化品目录(2015) |
Restrict | 危险品 |
*以上化合物性质及应用等信息仅供参考